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Wafer XRD

简要描述:Wafer XRD
Panalytical X射线技术
用于全自动晶圆拣选、生产和质量控制。

  • 更新时间:2024-08-20
  • 产品型号:
  • 访  问  量:196

详细介绍

Wafer XRD用于全自动晶圆拣选、生产和质量控制


特点

  • 适用于3到8寸晶圆。也可根据要求提供其他尺寸

  • FOUP、载具或单个晶圆台

  • 跨槽晶圆识别为可选功能

  • 易于集成到任何工艺生产线中

  • 测量速度:每个样品<10秒

  • 典型标准偏差(倾斜度):例如Si 100<0.003°

  • MES和SECS/GEM接口

  • 铜靶微焦点风冷X射线光管(**30W)或细焦点水冷X射线光管(**1.5kW)

  • 符合CE标准的安全控制装置

  • 通过3色灯塔指示状



材料

Si、SiC、GaAs、GaN、蓝宝石(Al₂O₃)、Ge、AIN、石英、InP和100s等。


可选插件

  • 电阻率测量范围:0.01至0.020Ωcm

  • 自动识别晶圆数据矩阵码、二维码、条形码或类似代码

  • 未抛光晶圆和镜面的距离测量


Wafer XRD

年产1,000,000片晶圆




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